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近日，运营商财经网在一个社交媒体上发现，有帖子称“上海微电子首台28nm光刻机样品交付”，该帖子同时称，“已于2023年1月通过科技部专家验证，2月发往下游工厂试用。第二台样机正在制作之中”，但奇怪的是，上海微电子并没有说有此事，中国首台28nm光刻机到底有没有出炉？
早在2021年是，当时的媒体就报道，上海微电子可交付首台国产28nm的沉浸式光刻机，但过去两年了，也没动静，肯定是技术上还不成熟。
这次被曝光交付样品的28纳米光刻机，实际上名字叫193nm ArF浸没式DUV光刻机SSA800，对标产品为ASML 2018年推出的DUV光刻机：TWINSCAN NXT:2000i。
从光刻机产品的名字来看，似乎是193nm的，为何说能生产28nm制程工艺的芯片呢？网上的说法是，从技术层面来讲，193nm光刻机除了可以生产193nm制程工艺的芯片之外，如果曝光几次就可以达到45nm芯片的水平，如果曝光三次就可以达到22nm芯片的水平，只要将良品率控制在合理范围内，理论上193nm光刻机可以生产28nm左右制程工艺的芯片。
具体是否这么回事，就不清楚了，听起来有点太玄乎。
网上的帖子称，对于首台28nm光刻机研发成功，“公司的员工也觉得很不可思议，去年上半年产品总监开会时，立项延期到什么时候都还不确定，因为对产品的完成大家很没信心”。
这个帖子一方面肯定成绩，另一方面又表示大家没信心，似乎还是没有突破关键技术，好像首台28nm光刻机样品的出炉撞运气似的。该帖子的论调令人困惑。
事实真相是如何？上海微电子自身已经很久没有发布光刻机的消息了，各种小道消息真假难辨。
（责任编辑：韩丽）
